2019年7月22日，科创板正式开门营业，首批25家企业上市。在其中和中微半导体的开盘价在上市第一天就飙升了300％以上，总市值超过600亿元。中微半导体成立于2004年，是一家全球性的微加工高端设备公司。其主要产品为集成电路， LED芯片、MEMS等半导体产品制造商提供刻蚀设备、MOCVD（金属有机化合物化学气相沉积）设备等设备。
目前世界上最先进、能实现批量生产的最小结构是7纳米。国际上只有美国泛林半导体与应用材料、日本东京电子、日立四家公司可以实现，而国内只有中微半导体一家公司可以实现这样的小结构。招股说明书显示，2016年至2018年，中微半导体分别实现营业收入6.1亿元、9.72亿元和16.39亿元；归属于母公司所有者的净利润分别为-2.39亿元、3000万元和9000万元。因此中微半导体上市了吗是肯定的，上市时间是2019年7月22日，科创板上市第一批个股。
中微半导体设备（上海）有限公司（“中微公司”简称证券，证券代码“688012”）总部位于上海，专注于亚洲，为全球客户提供技术和设备解决方案。
目前公司的等离子刻蚀设备已广泛应用于国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米到5纳米的集成电路加工制造和高级包装。本公司的金属有机化学气相沉积设备已在行业领先和线上，投入大规模生产，成为世界领先的氮化镓基发光二极管金属有机化学气相沉积设备，在中国处于领先地位。MOCVD设备市场有广阔的增长空间，包括红黄LED、紫外LED、功率器件、Mini LED、Micro LED等，正在推动显示技术革命。
不得不提到中微半导体公司的创始人、董事长兼总经理尹志尧博士。招股书显示，尹志尧博士在半导体芯片和设备行业拥有35年的行业经验，是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者，是89项美国专利和200多项国内外其他专利的主要发明人。
在创建中微半导体之前，尹志尧博士曾在英特尔从事核心技术开发，之后在林凡半导体领导刻蚀的几个关键产品的技术开发。1991年至2004年，他在应用材料领域担任高级管理职务，包括企业副总裁、刻蚀产品事业部总经理和亚洲总部首席技术官。
中微半导体的其他联合创始人、核心技术人员和重要的技术工程人员，包括杜志游博士、倪图强博士、麦仕义博士、杨伟先生和李天笑，先生，他们中的许多人都是资深的技术和管理专家，在国际半导体设备行业辛勤工作了几十年，为行业做出了卓越的贡献。
在刻蚀设备方面，自2004年成立以来，中微半导体首先开发了甚高频去耦等离子体刻蚀设备Primo D-RIE。到目前为止，我们已经成功开发了三代刻蚀设备：双反应台primo AD-RIE、双反应台Primo AD-RIE和单反应台Primo SSC AD-RIE。它涵盖了65纳米、45纳米、32纳米、28纳米、22纳米、14纳米、7纳米和5纳米显微器件的许多刻蚀应用。
2012年中微半导体开发了感应等离子体刻蚀设备。迄今为止已成功开发出单反应台普瑞莫纳米VA 刻蚀设备。目前，客户生产线已批准20个反应室；同时，我们开发了双反应台电感等离子体体刻蚀设备，主要覆盖刻蚀， 14纳米以下微器件的应用，还开发了电感等离子体深硅刻蚀设备，应用于集成电路的先进封装和微机电系统传感器行业。
目前刻蚀设备已经与65纳米至7纳米加工的刻蚀应用实现了产业化，正在对7纳米和5纳米的部分刻蚀应用进行客户验证，具有良好的产业整合性。据了解中微半导体是刻蚀五大设备供应商之一，已在全球最先进的晶圆制造7纳米生产线上得到验证和销售，其产品技术已经处于世界领先地位。
在金属有机化学气相沉积设备方面，中微半导体于2010年开始开发发光二极管器件加工中最关键的设备——金属有机化学气相沉积设备。目前，中微半导体已经开发了三代MOCVD设备，第一代设备Prismo D-Blue，第二代设备Prismo A7和第三代30英寸大尺寸设备正在开发中。
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